Для цитирования:

Нелюбин И.В., Волоховский А.Д., Путря М.Г. Применение метода оптической скаттерометрии для оперативного контроля геометрических параметров фоторезистивных масок. Вестник Новгородского государственного университета. 2023;(1(130)):80-87. https://doi.org/10.34680/2076-8052.2023.1(130).80-87

For citation:

Nelyubin I.V., Volokhovsky A.D., Putrya M.G. Оptical scatterometry application for in-line control of geometric parameters of photoresist masks. Title in english. 2023;(1(130)):80-87. (In Russ.) https://doi.org/10.34680/2076-8052.2023.1(130).80-87