Preview

Вестник Новгородского государственного университета

Расширенный поиск

Способ повышения порогового напряжения кремниевых ДМОП-транзисторов

https://doi.org/10.34680/2076-8052.2021.4(125).15-18

Аннотация

Исследовано влияние концентрации примеси в подложке и типа легирующей примеси поликремниевого затвора на пороговое напряжение кремниевых ДМОП-транзисторов с индуцированным n-каналом. Показано, что увеличение средней концентрации примеси в подложке на 50% позволило повысить пороговое напряжение транзистора более чем на 30%. Однако при этом наблюдался рост сопротивления канала транзистора, что повлекло за собой уменьшение тока стока примерно на 25%. Установлено влияние типа проводимости поликремниевого затвора на величину порогового напряжения транзистора. Показано, что замена фосфора на бор при легировании поликремниевого затвора позволяет увеличить пороговое напряжение примерно на 25%. При этом ток стока транзисторов не изменялся, что может представлять практический интерес при разработке помехозащищенных ключей на полевых транзисторах.

Об авторах

В. В. Гаврушко
Новгородский государственный университет имени Ярослава Мудрого
Россия

Великий Новгород



В. А. Ласткин
ОАО «ОКБ-Планета»
Россия

Великий Новгород



Т. А. Фирсова
ОАО «ОКБ-Планета»
Россия

Великий Новгород



Список литературы

1. Довгун В.П. Электротехника и электроника: учеб. пособие. В 2-х ч. Ч. 2. Красноярск: ИПЦ КГТУ, 2006. 252 с.

2. Окснер Э.С. Мощные полевые транзисторы и их применение / Пер. с англ. М.: Радио и связь, 1985. 288 с.

3. Блихер А. Физика силовых биполярных и полевых транзисторов / Пер. с англ. Л.: Энергоатомиздат, 1986. 248 с.

4. Колосницын Б.С., Гапоненко Н.В. Полупроводниковые приборы и элементы интегральных микросхем : учеб. пособие. В 2-х ч. Ч.2: Расчет и проектирование полевых транзисторов. Минск: БГУИР, 2012. 96 с.

5. Мустафаев Г.А., Кармоков А.М., Мустафаев А.Г. КНИКМОП полевые транзисторы с поликремниевыми затворами // Мат. VI Междунар. конф. «Химия твердого тела и современные микро и нанотехнологии». Кисловодск — Ставрополь. Сев-КавГТУ, 2006. 510 с.

6. Керенцев А., Ланин В. Конструктивно-технологические особенности MOSFET-транзисторов // Компоненты и технологии. 2007. №4. С.100-104.

7. Sze S.M., Gibbons G. Effect of junction curvature on breakdown voltage in semiconductors // Solid-State Electron. 1966. Vol.9. Is.9. P.831-845. DOI: https://doi.org/10.1016/0038-1101(66)90033-5

8. Irvin J.C. Resistivity of bulk silicon and of diffused layers in silicon // Bell Syst. Tech. J. 1962. Vol. 41. Is.2. P.387-410. DOI: https://doi.org/10.1002/j.1538-7305.1962.tb02415.x


Рецензия

Для цитирования:


Гаврушко В.В., Ласткин В.А., Фирсова Т.А. Способ повышения порогового напряжения кремниевых ДМОП-транзисторов. Вестник Новгородского государственного университета. 2021;(4(125)):15-18. https://doi.org/10.34680/2076-8052.2021.4(125).15-18

For citation:


Gavrushko V.V., Lastkin V.A., Firsova Т.A. Method for increasing the threshold voltage of silicon DMOS transistors. Title in english. 2021;(4(125)):15-18. (In Russ.) https://doi.org/10.34680/2076-8052.2021.4(125).15-18

Просмотров: 51


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2076-8052 (Print)